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产品名称：椭偏仪
品牌：颐光Eoptics
型号：SE-Mapping
关键词标签：椭偏仪、膜厚、n&k
一、简介
SE-Mapping 光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪，采用行业前沿创新技术，配置全自动Mapping测量模块，通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。
二、技术规格
光谱范围：380-1000nm（190-1650nm可扩展）
入射角：定角65°
光斑大小：微光斑200μm
膜厚重复性测量精度：优于0.01nm（100nm 硅基SiO2薄膜，30次，1σ）
折射率重复性测量精度：优于0.0005（100nm 硅基SiO2薄膜，30次，1σ）
膜厚测量范围：0.5nm-15μm
单点测量时间：0.5-5s
Mapping扫描测试时间：≤15min（8寸wafer采集49个测量点）
光源：高性能进口卤素灯光源（工作寿命：2,000h）
样品尺寸：可满足4寸/6寸/8寸wafer扫描测试。（12寸可选）
三、应用
广泛应用OLED，LED，光伏，集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。
