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光谱椭偏仪

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椭偏仪 SE-VM

产品时间:2022-10-31 10:28:16

简要描述:

SE-VM 是一款超高精度快速测量光谱椭偏仪,其采用自主研发的椭偏创新技术,具备 1 双旋转补偿器同步控制技术,2 透明基底消背反技术 等领先技术。快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析,适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度,...

详细介绍

产品名称:椭偏仪

品牌:颐光Eoptics

型号:SE-VM

关键词标签:椭偏仪、膜厚、n&k

一、简介

SE-VM 是一款超高精度快速测量光谱椭偏仪,其采用自主研发的椭偏创新技术,具备 1 双旋转补偿器同步控制技术,2 透明基底消背反技术 等领先技术。快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析,适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度,微光斑,可视化调平系统等高兼容性灵活配置,多功能模块定制化设计。

SE-VM.png

二、技术规格

光谱范围:380-1000nm(190-1650nm可扩展)

入射角:55/60/65/70/75°(斜入射,手动变角),90°(直通模式)

光斑大小:微光斑200μm

膜厚重复性测量精度:优于0.01nm(100nm 硅基SiO2薄膜,30次,1σ)

折射率重复性测量精度:优于0.0005(100nm 硅基SiO2薄膜,30次,1σ)

膜厚测量范围:0.5nm-15μm

单点测量时间:0.5-5s

光源:高性能进口卤素灯光源(工作寿命:2,000h)

样品尺寸:最大支持样件尺寸到Ф200mm

三、应用

广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。

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