薄膜应力的产生

在硅片等基板上镀膜时，镀膜一般为升温过程，当基板冷却后由于基板和薄膜的热膨胀系数不同，导致薄膜产生拉伸或压缩，产生弯曲，从而产生应力。

为什么要监控薄膜应力

对于工艺工具的监测，优化和匹配以实现产量最大化，需要对关键薄膜层进行应力测量。

CVD/PVD机台调试、新工艺开发。

应力不均匀可能会影响器件性能，使良率降低。

应力不均匀可能导致器件由于剥落/开裂、金属堆积、分层or变形、空洞而失效。

薄膜应力的测量原理

测量原理为Stony方程，采用激光测量镀膜前后的翘曲度差值，带入Stony方程，即可求得薄膜应力，需要注意的是薄膜应力测量不是直接量测出的结果，直接量测出的结果为曲率半径。

FSM 128NT薄膜应力仪技术规格

应力范围：1 MPa to 4 GPa

样品尺寸：50mm-200mm（128L-300mm）

翘曲灵敏度：1μm

结果呈现：2D/3D Mapping

双激光自动切换：650nm和780nm

扫描线条数：最大32条线，一般为6条

数据点：200mm直径大于8000点，每mm大于40点

光片及带图案片均可测量。